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研究?#34892;?/h2>

国?#19994;?#26041;联合工程研究?#34892;?/p>

新闻资讯

2019-08-19

苏大维格子公司维业达与南通市经济技术开发区管委会成功签订投资协议

苏大维格子公司维业达专注于中大尺寸柔性电容触控屏的研发与制造,在全球触控屏产品市场?#20889;?#20110;技术优?#39057;?#20301;。为加快新型柔性触控屏技术的产业化进度,2019年8月18日,维业达拟以自筹资金出资5亿元人民币设立全?#39318;?#20844;司维业达科技(江苏)有限公司(暂定名)。同时,维业达与南通市经济技术开发区管理委员会签署投资协议,?#32423;?#32500;业达在南通经济技术开发区投资建设“高性能柔性触控屏及模组和研发?#34892;南?#30446;?#20445;?#24182;以维业达江苏为主体实施本项目,项目初步预计一期总投资18亿元,用地约105亩。

2019-08-09

常州市?#24418;?#20070;记汪泉莅临苏大维格集团子公司华日升调研

汪书记一行在华日升总经理陆亚建的陪同下参观考察了公?#38236;摹?#31185;技文化展厅?#20445;?#21442;观期间陆总详细地介绍了反光材料行业的大体情况,以及华日升近年来在微棱镜国产化道?#39134;?#25152;进行的技术创新、产业化工作。陆总说,我们公司投资建设的微棱镜?#22836;?#20809;材料产业化项目在今年被列为省重大科技成果转化项目,计划明年下半年逐步达产。

2019-07-31

苏大维格:预期今年底完成一台110英寸微图形光刻直写设备和配套光刻设施

苏大维格发明了一种高效微纳结?#20849;?#34892;直写方法。用数字光场调控与脉冲叠加曝光方法,将海量数据光电转换成微纳3D形貌。发明了“多台阶二元光学数字光场叠加写入模式”和“灰度数字模板?#20445;?#36890;过光场灰度调控与积分写入,使得微纳3D形貌的直写效率提高了(2N/N)倍。攻克了“海量数据设计→微纳结构光场→3D形貌”纳米制造领域的重大难题。横向数字?#30452;?#29575;100nm,3D形貌0-50μm,数据处理能力达40Tb。

2019-07-31

苏大维格?#33322;?#25104;环保3D光学转移产品产线

国家环保政策鼓励绿色印刷的研发与产业应用。当前印刷包装产业普遍应用的光学转移膜,其生产过程中的涂?#24049;?#22266;量15%~30%,大量的有机溶?#21015;?#35201;处理,烟草行业一年2000万大箱的转移包装材料,以17%固含量的转移涂料计算,每年约使用11500吨~12500吨涂料,产生9500~10375吨有机溶剂。因此,降低甚至不使用含有有机溶剂的材料,是实现转移膜的绿色制程的关键。

 

背光模组超薄导光板(膜)

热压印工艺将精密模具上微结构复制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光学网点结构?#34892;?#22320;将全内反射进入导光板(膜)光线导出表面。通过微结构优化中大尺寸导光板(膜),光线从接近正出射角度导出,亮度更高,更均匀。

 

大尺寸透明导电膜(模组)

“基于柔性纳米压印技术”的新型透明导电膜制造技术,采用micro-metal-mesh(M3)制程工艺,颠覆了精密电路需要蚀刻的传统工艺,通过纳米压印和增材制造(选择性生长),获得大幅面高性能透明导电膜和自支撑透明导电材料

 

创新 + 资本+ 产业的官助民营新型研究院

苏州苏大维格科技集团股份有限公司

 

总部

苏州?#34892;?#26124;路68号,苏州工业园区(独墅湖大道南侧,与金堰?#26041;?#21449;口)
电话:+86-512-6286 8882
传真:+86-512-6260 0602
邮箱:[email protected]

最新公告

2019-04-08

苏大维格?#19981;?018年度江苏省科学技术?#24065;?#31561;奖

苏州苏大维格科技集团股份有限公司(以下简称“公司?#20445;?#20110;近日收到江苏 省人民政府下发的《省政府关于 2018 年度江苏省科学技术奖励的决定》[苏政发 (2019)22 号],公司获得 2018 年度江苏省科学技术?#24065;?#31561;?#34180;?/p> 更多信息

2019-01-09

项目介绍:面向微纳3D形貌的紫外光刻直写技术与设备

超薄化、轻量化意味着微纳结构的运用。然而,大面积3D微纳结构的设计与制造面临巨大挑战。首先,大面积3D微纳结构涉及海量数据处理与设计。例如,一个超薄导光器件?#31995;?#24494;透镜有数千万个以上;一件口径10mm以?#31995;?#36229;透镜,含有数十亿到数百亿个数据单元;一幅大尺寸透明电路传感器涉及数十Tb以?#31995;?#25968;据量;大口径薄膜成像透镜涉及精确3D形貌,数据量会数量?#23545;?#22823;;第二,将设计数据转换成微纳结构的途径与效?#30465;?#22914;何将这么庞大数据直接转换成微纳3D结构?不仅需要高速率海量数据并?#20889;?#29702;、压缩、传输与转化技术,还需转换系统的高精度、可调性与可靠性;第三,先进工艺技术保障。大面积衬?#35013;?#38543;着不平整度远大于光刻系统的?#32929;睿?#22240;此,必须解决衬底不平整性对微结构?#30452;?#29575;和保真度的影响,解决与成像?#32929;?#30340;矛盾,才能实现高保真3D微结构的高效率制备。

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2019-01-09

项目介绍:光场调控的纳米光刻设备NanoCrystal200

研究表明,微纳尺度界面与光电子相互作用产生的效应,是设计超材料、超表面的新途径。微纳结构制造技术是实?#30452;?#33180;成像、透明导电、电磁隐身等技术基础。由于3D 形貌及其排列精度对光子材料与器件的特性有极其重要的影响,因而,在大面积衬底上实现纳米精度的微纳结构的高效制备,一直是国?#20351;?#27880;的重大共性难题。

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2019-01-09

项目介绍:微纳3D打印/光刻技术与设备

在微结构打印方案中,已有的3D打印技术存在诸多限制,?#20174;行?#35299;决器件尺寸与精度之间的矛盾、也存在3D结构打印保真度与可靠性不协调的难题。1、利用超快激光的“双光子效应”的3D打印,?#30452;?#29575;可达0.1微米,但串行写入模式,效率极低、对环境稳定性要求极高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗时太长,所以,可靠性降低;受制于非线性材料特性和处理工艺,打印一致性很难保障;2、光固化3D打印(SLA),利用胶槽供胶与DLP投影光逐层打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面积数毫米。由于累积曝光效应,对胶槽中光固化胶的吸收特性有严格要求,易导致打印的结构展宽,尤其对大深宽比微结构的打印,失真严重。

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